Characterization of two-layer Al/TiN microwave kinetic inductance detectors

2024

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1117/12.3018592
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

In this paper we will present characterization of our Microwave Kinetic Inductance Detectors (MKIDs). The design process involved using Sonnet and LEdit 8.3. In this design, we employed a structure consisting of TiN (3nm)/Ti (10nm)/TiN(3nm) layers covered by a 100nm aluminum layer. This structure provides a kinetic inductance of 100 pH/Sqcm and a critical temperature of 1.1 Kelvin. The MKIDs were fabricated on 5-inch silicon wafers with a resistivity exceeding 15000 ohm cm. The designs cover three frequency regimes: 1-2 GHz, 2-4 GHz, and 3-6 GHz. This variation in frequency ranges allows us to study the improvement of quality factors and provides a range of frequencies for testing our electronics.