Characterization of two-layer Al/TiN microwave kinetic inductance detectors

2024

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1117/12.3018592
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

In this paper we will present characterization of our Microwave Kinetic Inductance Detectors (MKIDs). The design process involved using Sonnet and LEdit 8.3. In this design, we employed a structure consisting of TiN (3nm)/Ti (10nm)/TiN(3nm) layers covered by a 100nm aluminum layer. This structure provides a kinetic inductance of 100 pH/Sqcm and a critical temperature of 1.1 Kelvin. The MKIDs were fabricated on 5-inch silicon wafers with a resistivity exceeding 15000 ohm cm. The designs cover three frequency regimes: 1-2 GHz, 2-4 GHz, and 3-6 GHz. This variation in frequency ranges allows us to study the improvement of quality factors and provides a range of frequencies for testing our electronics.