Aluminum doped zinc oxide layers by atomic layer deposition and magnetron sputtering: formation and comparison of optoelectronic properties

Gauhar Mussabek

Physical Sciences and Technology, 2015

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)

DOI 10.26577/2409-6121-2015-2-1-18-23

Достоверность данных 70 средняя

Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Thin films of aluminum-doped zinc oxide (AZO) were prepared using magnetron sputtering and atomic layer deposition (ALD) techniques. Atomic force microscopy (AFM) studies of AZO films surface morphology show that the surface of produced by ALDfilms is a smoother in comparison with films formed by magnetron sputtering.According to comparative analysis of optical transmittance spectra in the visible range of 300 - 800 nm, films formed by ALD technique demonstrates 10% higher transparency than those that obtained by magnetron sputtering. Investigation of samples electrical properties show that the conductivity of AZO films obtained by ALD technique actually two orders of magnitude higher than analogues obtained by magnetron sputtering.