Influence of hydrogen plasma processing on gas-sensitive tin dioxied thin film properties

Igor A. Karapatnitski, K.A. Mit’, Д.М. Мухамедшина, Grigory G. Baikov

2000

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1117/12.408464
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

The influence of glow discharge hydrogen plasma processing on undoped tin dioxide (SnO2) thin film structure and properties have been investigated. The films of 150 - 200 nm thickness were deposited by a method of magnetron sputtering on Al2O3 substrate at the temperature of this one 250 degree(s)C with a rate of 1.5 - 2.0 nm/min in argon-oxygen mixture atmosphere. It was shown these films are amorphous just after fabrication, theirs polycrystalline structure appears after annealing and disappears after processing in the hydrogen plasma. Such a processing expands a temperature range of film sensitivity to ethanol and heptane vapors, increases the sensitivity to low concentration of those.