INFLUENCE OF PLASMA TREATMENTS ON THE PROPERTIES OF SnOx THIN FILMS

2006

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1615/hightempmatproc.v10.i4.110
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

The influence of treatment by glow discharge hydrogen and oxygen plasma on properties of undoped SnOxthin films has been studied. Films of ∼ 350−400 nm thick have been deposited on a glass substrate by magnetron sputtering in an argon-oxygen atmosphere. The dependences of structural, electrical and optical properties of SnOx films on plasma processing time have been investigated. The results are discussed in terms of SnOx thin films microstructure.