Барлық параметрлер сіздің құрылғыңызда сақталады.
2006
Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.
The influence of treatment by glow discharge hydrogen and oxygen plasma on properties of undoped SnOxthin films has been studied. Films of ∼ 350−400 nm thick have been deposited on a glass substrate by magnetron sputtering in an argon-oxygen atmosphere. The dependences of structural, electrical and optical properties of SnOx films on plasma processing time have been investigated. The results are discussed in terms of SnOx thin films microstructure.