Improving the Strain Control Performance of MoS2 Monolayer to Develop Flexible Electronics

2023

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1002/adem.202301470
Достоверность данных 85 высокая
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

In recent years, two‐dimensional (2D) materials with unique mechanical, optical, and electrical properties have attracted extensive attention. In terms of mechanical properties, 2D molybdenum disulfide (MoS2) can perform larger strains than traditional semiconductor materials. In this contribution, the chemical vapor deposition technique to grow MoS2 films on a Si wafer and transfer them onto a flexible substrate is used. The controlled deformation of 2D MoS2 samples is realized by encapsulating them with a flexible acrylate film via successive spin‐coating and photopolymerization. Improved strain control is achieved due to the perfect integration of different components (MoS2/substrate) and the high adhesion of polymers. This approach provides a better detection of the changing structure of the MoS2 monolayer on the flexible substrate during tensile. It is noted that the crystal symmetry damage caused by strain is reflected in the redshift of the characteristic bands of MoS2. Hence, an effective way for strain regulation of MoS2 for future applications in flexible devices is provided.