Improving the Strain Control Performance of MoS2 Monolayer to Develop Flexible Electronics

2023

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1002/adem.202301470
Деректер сенімділігі 85 жоғары
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

In recent years, two‐dimensional (2D) materials with unique mechanical, optical, and electrical properties have attracted extensive attention. In terms of mechanical properties, 2D molybdenum disulfide (MoS2) can perform larger strains than traditional semiconductor materials. In this contribution, the chemical vapor deposition technique to grow MoS2 films on a Si wafer and transfer them onto a flexible substrate is used. The controlled deformation of 2D MoS2 samples is realized by encapsulating them with a flexible acrylate film via successive spin‐coating and photopolymerization. Improved strain control is achieved due to the perfect integration of different components (MoS2/substrate) and the high adhesion of polymers. This approach provides a better detection of the changing structure of the MoS2 monolayer on the flexible substrate during tensile. It is noted that the crystal symmetry damage caused by strain is reflected in the redshift of the characteristic bands of MoS2. Hence, an effective way for strain regulation of MoS2 for future applications in flexible devices is provided.