Formation of porous Ga2O3/GaAs layers for electronic devices

2022

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1109/tcset55632.2022.9766890
Достоверность данных 85 высокая
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

The article presents a simple and cheap method to form a porous structure of Ga2O3/GaAs on the surface of monocrystalline gallium arsenide. It is shown that two-stage etching in the nitric acid solution leads to massive etching pits as well as small pores on the surface. Ethanol added to the electrolyte solution in the second stage enables to form a passivating Ga2O3layer. The obtained structures were investigated using SEM, EDX and Raman spectroscopy.