Formation tantalum coating on NiTi surface by magnetron sputtering technique

2022

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1742-6596/2155/1/012005
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Abstract The materials of research the structure and morphology of the tantalum coating on the surface of the NiTi alloy in this work presents. Tantalum was deposited by the DC - magnetron sputtering method. The influence of the energy supplied to the magnetron on the formation of the Ta-coating is shown.Changes in the structure of the coating at different stages of its formation are shown.It was found that with a significant decrease in the energy supplied to the magnetron, tantalum is deposited more uniformly. Besides the gradient of mechanical stresses in the coating is reduced.