Formation tantalum coating on NiTi surface by magnetron sputtering technique

2022

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1742-6596/2155/1/012005
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Abstract The materials of research the structure and morphology of the tantalum coating on the surface of the NiTi alloy in this work presents. Tantalum was deposited by the DC - magnetron sputtering method. The influence of the energy supplied to the magnetron on the formation of the Ta-coating is shown.Changes in the structure of the coating at different stages of its formation are shown.It was found that with a significant decrease in the energy supplied to the magnetron, tantalum is deposited more uniformly. Besides the gradient of mechanical stresses in the coating is reduced.