Studying of nanocomposite films’ structure and properties obtained by magnetron sputtering

2016

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1757-899x/110/1/012004
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Various approaches to creating multicomponent na-nocomposite coatings of high and superhigh hardness (from 30 to 100 ± 120 GPa) are reviewed with particular emphasis placed on mechanisms underlying the increase in hardness in thin coatings. Nanocomposite Nb-Al-N films fabricated by magnetron sputtering were researched in this work. Two stable crystalline structural states were found in the films: NbN ch and solid solution B1-Nb x Al 1-x N y O 1-y , and also an amorphous component associated with aluminum oxynitride with reactive magnetron sputtering. A relationship of substructural characteristics sensitivity with the current and nanohardness and Knoop hardness characteristic was determined in this paper. Recent changes in the range of 29-33.5 GPa and 46-48 GPa, respectively. Initial principle calculations of NbN and Nb 2 AlN phases and NbN/AlN heterostructures were carried out for the interpretation of the results. Deposited nanocomposite films with the given mechanical properties may be used as wear resistant or protective coatings. On the basis of these results, it can be assumed that two stable crystalline structural states were found in the films: B1-NbN x and solid solution with a composition close to the B1-Nb 0−67 Al 0−33 N. The films also contain an amorphous component associated with aluminum nitride.