Studying of nanocomposite films’ structure and properties obtained by magnetron sputtering

2016

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1757-899x/110/1/012004
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Various approaches to creating multicomponent na-nocomposite coatings of high and superhigh hardness (from 30 to 100 ± 120 GPa) are reviewed with particular emphasis placed on mechanisms underlying the increase in hardness in thin coatings. Nanocomposite Nb-Al-N films fabricated by magnetron sputtering were researched in this work. Two stable crystalline structural states were found in the films: NbN ch and solid solution B1-Nb x Al 1-x N y O 1-y , and also an amorphous component associated with aluminum oxynitride with reactive magnetron sputtering. A relationship of substructural characteristics sensitivity with the current and nanohardness and Knoop hardness characteristic was determined in this paper. Recent changes in the range of 29-33.5 GPa and 46-48 GPa, respectively. Initial principle calculations of NbN and Nb 2 AlN phases and NbN/AlN heterostructures were carried out for the interpretation of the results. Deposited nanocomposite films with the given mechanical properties may be used as wear resistant or protective coatings. On the basis of these results, it can be assumed that two stable crystalline structural states were found in the films: B1-NbN x and solid solution with a composition close to the B1-Nb 0−67 Al 0−33 N. The films also contain an amorphous component associated with aluminum nitride.