Etching of the Aluminum Foil Surface Using High-Frequency Plasma to Produce a Nanoporous Aluminum Oxide Membrane

2021

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1109/elconrus51938.2021.9396575
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

This work is related to the treatment of the surface of aluminum foil with plasma in a high-frequency discharge and the formation of a nanoporous aluminum oxide membrane based on it using an electrochemical anodizing process. It was known that after plasma etching, tracks were formed on the surface of aluminum foil. It is established that these changes will depend on the power of the high-frequency discharge. The surface of aluminum foil treated with plasma and nanoporous aluminum oxide membranes formed after electrochemical anodizing were studied using scanning electron microscopy.