Optimization of deposition parameters for thin film lithium phosphorus oxynitride (LIPON)

Eurasian journal of physics and functional materials, 2019

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.29317/ejpfm.2019030209
Деректер сенімділігі 85 жоғары
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Thin film of lithium phosphorus oxynitride (LIPON) was successfully deposited by radio frequency (RF) magnetron sputtering technique using a Li 3 PO 4 target. The optimal deposition parameters were determined for the thin films with the highest target-substrate distance. Characterization of deposited film was carried out by AFM, FTIR and Raman spectroscopy, which showed incorporation of nitrogen into the film as both doubly, N d , and possibly triply, N t , coordinated form. The ac impedance spectroscopy measurements revealed that the highest ionic conductivity of 1.1 µScm -1 was achieved at room temperature for the samples prepared at the optimum RF power and gas flow conditions.