Ion implantation of helium and hydrogen in boron coatings

2020

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1757-899x/1005/1/012005
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Abstract The work presents the calculated mean free paths of hydrogen, deuterium and helium ions in boron-carbon and boron-titanium films of various configurations. Has been rated impact of these coatings at various film thicknesses for ion capture in tungsten. The calculations were carried out using the software package SRIM-2012, for each mileage value was calculated by modeling of10,000 cascades.