Electrochemical Nanostructuring of Semiconductors by Capillary-Cell Method

2010

Полный текст Открытый доступ: Hybrid Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.4028/www.scientific.net/kem.442.1
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Wafers of silicon and compound semiconductors are nanostructured by using electrochemical or chemical etching (stain etching) in etching cell with electrolyte kept by capillary forces. Atomic force microscopy, infrared spectroscopy and Raman scattering methods reveale nanoporous and nanocrystalline structure of the treated surfaces. The formed porous semiconductors demonstrate efficient photoluminescence, which is controlled by etching parameters, i.e. current density, electrolyte content, etc. These results indicate good prospects of the employed capillary-cell method for preparing nanostructured porous materials with desired structure and optical properties.