Structural features and nitrogen positions in titanium oxynitride films grown in plasma of magnetron discharge

2019

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1742-6596/1281/1/012062
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Abstract The paper addresses the results of the analysis of the structural features of nitrogen-containing titanium oxides films, deposited by reactive magnetron sputtering. The films have a nanocrystalline two-phase structure and consist of anatase and rutile crystallites, regardless of the coating deposition regimes. No traces of titanium nitride phase are found in the film and nitrogen atoms in oxide form are localized at the grain boundaries of the deposited film.