Metastable and bistable defects in silicon

2000

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1070/pu2000v043n02abeh000649
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Existing data on the properties and structure of metastable and bistable defects in silicon are analyzed. Primary radiation-induced defects (vacancies, self-interstitial atoms, and Frenkel pairs), complexes of oxygen, carbon, hydrogen, and other impurity atoms and defects with negative correlation energy are considered.