THERMAL STABILITY OF HARD TANTALUM BORIDE FILMS

2020

Закрытый доступ Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.1615/hightempmatproc.2020035911
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

Článek pojednává o fyzikálních a mechanických vlastnostech vrstev boridu tantalu s podstechiometrickým složením (TaBx < 2) připravených magnetronovým naprašováním. Vrstvy byly připraveny z TaB2 terče. Bylo prokázáno, že stechiometrický koeficient x, TaBx vrstvy, silně souvisí s jejím bombardováním ionty, řízeným záporným předpětím Us na substrátu. Bylo zjištěno, že vrstvy TaBx < 2 s podstechiometrickým složením vykazují při strukturní rentgenové analýze amorfní strukturu, jsou tvrdé a ohebné s vysokým poměrem H/E* a zvýšenou odolností proti vzniku trhlin; zde H je tvrdost a E* je efektivní Youngův modul pružnosti materiálu vrstev. V článku jsou uvedeny podmínky, za kterých byly vrstvy vytvořeny. Dále je rovněž zmíněna tepelná stabilita naprášených TaBx vrstev a jejich odolnost vůči oxidaci při jejich tepelném žíhání ve vzduchu.