EFFECT OF SILICA NANOPARTICLES ON SURFACTANT ADSORPTION KINETICS

2025

Полный текст Открытый доступ: Gold Метаданные (CSL-JSON)
DOI 10.20319/stra.2025.111112
Достоверность данных 70 средняя
Как считается эта оценка

Складывается из проверяемых признаков самой записи: есть ли у статьи DOI, сколько независимых источников подтвердили её данные, заполнены ли обязательные поля и насколько свежо последнее подтверждение. Снижают оценку расхождения между источниками и отсутствие идентификатора. Значение от 80 означает, что запись опубликована без дополнительной проверки; от 60 до 79 — что она опубликована с пониженной достоверностью и ручная проверка желательна. Запись, выверенную редактором вручную, пересчёт не опускает ниже 90. Это оценка наших данных о статье, а не оценка самой статьи.

Аннотация

This study investigates the effect of fumed silica nanoparticles (SiO2) on the surface tension behavior of three surfactant types: sodium dodecyl sulfate (SDS; anionic), polysorbate 80 (Tween 80; nonionic), and dodecyltrimethylammonium bromide (DTAB; cationic). Surface tension measurements were conducted using the pendant drop method for pure surfactant solutions and surfactant/SiO2 suspensions at concentrations ranging from 0.001 to 16 mM and SiO2 content of 0.1-0.5 wt %. The addition of silica nanoparticles altered the surface tension kinetics compared to pure surfactant solutions across the same concentration range. For SDS and DTAB systems, the isotherms showed non-monotonic changes with characteristic inflection points, whereas Tween 80 demonstrated more gradual modifications. This complex behavior indicates competitive adsorption mechanisms at the interface, where nanoparticles can either disrupt surfactant packing (increasing tension) or facilitate synergistic stabilization (decreasing tension) depending on concentration regime and electrostatic interactions. Understanding these concentration-dependent transitions is crucial for optimizing colloidal stability in practical applications such as agrochemical formulations.