APMP key comparison for the 10 MΩ and 1 GΩ resistance

Kwang Min Yu, Wan Seop Kim, Kwon Soo Han, Jimmy Chun-Ming Hsu, Chiwat Jessadajin, Nirul Irwani Ishak, Zhou Yinzhu, Nobu‐Hisa Kaneko, B.J. Pritchard, Alexander Matlejoane

Тағы 5 автор

Liang Bo, Yuri P. Semenov, Brenda H. S. Lam, Danat Termikhanov, Laurie A. Christian

2014

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1109/cpem.2014.6898378
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

A key comparison for the 10 MΩ and 1 GΩ resistance, APMP.EM-K2, has been carried out by the Asia-Pacific Metrology Program(APMP) Regional Metrology Organization(RMO). The purpose is to establish the degree of equivalence of resistance among the national metrology institutes(NMIs) within APMP, in support of CIPM Mutual Recognition Agreement(MRA). The key comparison artifacts are three 10 MΩ and three 1 GΩ resistance standards which was loaned from NIST and the 13 NMIs were participated in the comparison. The results will be presented at the conference.