Influence of treatment in the (O2,H2) plasma on the structure and physical properties of SnO x films

2011

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1134/s1063783411020041
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

The influence of treatment in hydrogen and oxygen glow discharge plasmas on the structural and optical properties of 270- to 350-nm-thick SnO x films prepared using magnetron sputtering and the sol-gel method on the glass substrate has been considered. It has been demonstrated that the plasmas exert segregating and destroying effects on the structure of crystal grains, the transparency of films, and on their porosity. It has been established that treatment in the hydrogen glow discharge plasma makes it possible in principle to prepare crystal-amorphous nanostructures in which tin oxide nanocrystals of high quality alternate with tin oxide clusters.