High sensitive NH 3 sensor based on electrochemically etched porous silicon

2020

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1080/23311916.2020.1810880
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

In the current study, porous silicon (por-Si) samples were fabricated by electrochemical etching at different times (20 min, 40 min, 60 min). Scanning electron microscope (SEM) images of horizontal cross-sections of the samples showed the formation of pores. The etched samples’ porosity was determined by the gravimetric method and amounted to 59.5%, 72.7%, 83.3%, respectively. Optical characteristics such as Raman spectra and photoluminescence (PL) spectra were obtained. The current-voltage and capacitance-voltage characteristics were also measured to calculate the sensitivity of the samples. The study results show that sample, which is etched for 40 minutes has a maximum response value to ammonia (NH3) gas than others, and the sensitivity is 33.25. The results demonstrated that it is possible to develop a high sensitive sensor device based on por-Si for determining NH3 gas in concentrations below 0.1 ppm at room temperature.