Studying the composition and structure of films obtained by thermal oxidation of copper

2017

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1134/s1087659617030026
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

The composition and structure of copper oxide thin films obtained by thermal oxidation of copper layers with a thickness of 100 nm, deposited onto quartz glass by high-frequency magnetron sputtering, have been studied. The dependences of the film thickness and content of CuO and Cu 2 O oxides in it on the temperature–time conditions of thermal treatment are obtained. The studies have shown that depending on the preparation modes, the films can be multiphase and contain different copper oxides, predominantly, CuO and Cu 2 O, which possess different bandgaps and p -type conductivity.