Effect of Bi addition on the switching effect and structure of thin Ge2Sb2Te5 films prepared by ion-plasma RF co-sputtering

2024

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Hybrid Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1016/j.jnoncrysol.2024.123167
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Ge 2 Sb 2 Te 5 (GST) films are widely used in non-volatile phase-change memory devices, their properties can be fine-tuned by element doping. In this work, current-voltage (I-V) characteristics of the switching process and the structure of phase-change GST films doped with Bi concentration from 0 to 9.2 at.% have been studied, the parameters of the switching process were found dependent on Bi content. The composition with Bi 6.3 at.% was found to have optimal values of power consumption and switching time. XRD and XPS analyses show that amorphous and crystalline phases in this material, unlike other compositions, are formed by very similar structural blocks with Bi atoms making chemical bonds only with Te atoms.