Optoelectronic and nanosized features of nanostructured porous silicon

2021

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Hybrid Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.51301/vest.su.2021.i4.14
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

This paper considers the optoelectronic properties of porous nanostructured silicon obtained by electrochemical etching method. It was noted that the electrolyte concentration affects the depth of porosity, while the anodizing current density affects the density and size of crystallites, as well as the photoluminescence spectra. The results of the Raman measurement showed a low-frequency shift of the wavenumber on the 504 cm-1 line, which changes the frequency difference Δω to 16 cm-1 wavenumber units, while the cross-sectional diameter of the nanocrystallites is distributed from 2.3 nm to 4.3 nm.