Synthesis of graphene and other 2D material: The past and future of chemical vapor deposition

2015

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1109/imws-amp.2015.7324942
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Over the past seven years, chemical vapor deposition has emerged as the preferred technique for the synthesis of graphene films on metal as well as other substrates. Commercial cell phones with a graphene touch screen have been introduced and roll-to-roll production tools have been demonstrated. The deposition temperature is also reduced from >1000°C to ~400°C with a plasma-enhanced process. For device applications, a seeded growth of single-crystal graphene at predetermined location technique has been developed to avoid the detrimental effects of the grain boundaries. The application of chemical vapor deposition and seeded growth to transition metal dichalcogenides is now under investigation.