Deposition of a titanium carbonitride coating by magnetron sputtering on a substrate with a potential voltage

2021

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.31643/2021.16
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Titanium carbonitride (TiCN) is of high relevance in the field of creating wear-resistant protective coatings in order to ensure maximum wear resistance and service life of parts of friction units. Titanium carbonitride coatings were obtained by magnetron sputtering at various bias substrate in the range from 0 to -130 V with a step of 10 V. The effect of the bias substrate on the deposition rate, phase and elemental composition, and the friction coefficient of the obtained coatings was investigated. As a result of the obtained dependences, the most optimal mode of deposition by the method of reactive magnetron sputtering with a negative bias voltage on the substrate was determined.