Microstructure and Properties Development During Thermal Treatments of Ti3SiC2/TiC Coating Produced by Denotation Spraying onto Carbon Steel Grade U9

2021

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1109/nap51885.2021.9568509
Деректер сенімділігі 85 жоғары
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

It is known that Ti3SiC2is the only stable ternary compound in the Ti-Si-C system that demonstrates a good microstructure-properties relationship. The production of Ti-C-Si by detonation spraying technique results in the formation of multilayer Ti3SiC2/TiC coating. This transformation is due to the deintercalation of Si from Ti3SiC2that enlarges after heat treatment. This article provides investigations on the effect of middle-temperature annealing on the structural-phase state, mechanical and tribological properties of Ti3SiC2/TiC coatings obtained by the detonation spraying method. After annealing, the formation of [110], [211] and [301] reflections of TiO2phases and an increase in the intensity of [103] and [108] reflections of Ti3SiC2phases are observed. The maximum hardness of 1400 HV obtained for the coating annealed to 800° C. A similar tendency observed during adhesion tests. An increase in annealing temperature to 800° C, improves the adhesion strength of the coating to 13.2 N. Meanwhile the value of COF remains stable for as-deposited and annealed coating. The property improvements are due to the formation of denser structure and oxideTiO2films.