The pulse plasma flows application in material science and nanotechnology

2019

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1063/1.5135502
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Work peculiarities of powerful and low-temperature pulsed plasma flow accelerators, and plasma focus devices, were considered on the technological application point view. A common and characteristic feature for all installations is the pulsed nature of plasma formation. At first, the results of researches on the use of a pulsed vacuum-arc unit in nano-engineering are presented. The powder materials were obtained in the form of clusters, in the composition of which spherical particles were found. In next experiment, the powerful plasma flow was directed to a graphite target for its sputtering, and then the plasma was condensed onto a nearby steel substrate. The presence of precipitated graphite particles of spherical shape and dimensions of 110–900 nm is shown. The results of the study allow to make a conclusion about the possibility of obtaining spherical particles with a controlled composition when using different targets.