Effects of thermal and laser annealing on the structure of Ge2Sb2Te5 thin films

2024

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.15251/cl.2024.217.575
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

In this study, we used Raman spectroscopy to compare the local structure of Ge2Sb2Te5 (GST) thin films with thicknesses of 90 nm and 271 nm that were crystallized through thermal annealing and laser radiation (laser annealing) during the recording of Raman spectra in situ. We found that for all crystallized films, the position of the main peaks in the Raman spectra was almost the same, and their structure corresponded to a hexagonal close packed state. It is noteworthy that the full width at half maximum (FWHM) of the main peaks varies considerably depending on the crystallization method used.