Modelling of track formation in nanocrystalline inclusions in Si3N4

2022

Жабық қол жеткізу Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1063/5.0098432
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

A multiscale modeling is applied to investigate structural changes caused by impacts of swift heavy ions in Si3N4 nanoclusters imbedded into amorphous and crystalline silicon nitride matrices. The approach combines the Monte Carlo code TREKIS describing the excitation kinetics of electronic and atomic subsystems and a classical molecular dynamics tracing subsequent relaxation of lattice atoms. Ion impacts in amorphous and crystalline Si3N4 result in formation of a cylindrical amorphous region of a reduced material density, surrounded by a shell with an increased density. The track diameter inside a nanosized inclusion in crystalline or amorphous matrices was found smaller than in surrounding materials, which can be explained by a heat confinement by grain boundaries.