Defect formation and damage mechanisms in Ga 2 O 3 under proton and neutron irradiation: a comprehensive review

2026

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Hybrid Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.1088/1361-6463/ae41cc
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

Abstract This review systematically analyzes recent studies on proton and neutron irradiation in Ga 2 O 3 , spanning a wide energy range (keV–GeV) and including less commonly discussed polymorphs such as α-, γ-, κ -, and δ -Ga 2 O 3 alongside the β -phase. While prior works often focus narrowly on specific structures, this review aims to provide a broader comparative perspective across polymorphs, irradiation types, and defect formation pathways, with particular emphasis on their impact on device-level characteristics such as breakdown voltage and leakage current. Proton irradiation typically induces Ga-vacancy-related compensating defects, with carrier removal rate (CRR) values ranging from 100 to 400 cm −1 . In contrast, neutron irradiation, although less ionizing, can lead to comparable or even greater carrier compensation. The response of doped and heterostructured systems is critically assessed, highlighting both vulnerabilities and mitigation strategies, including annealing and co-doping. The novelty of this review lies in its polymorph-specific and irradiation-type-comparative perspective, providing unified benchmarks (CRR, trap spectra, annealing pathways) that enable direct cross-study comparisons and guide the design of radiation-tolerant Ga 2 O 3 -based electronics.