Спектральные характеристики аргоновой и аргон-метановой плазмы, полученной в RF-DBD реакторе при низком давлении

2026

Толық мәтін Ашық қол жеткізу: Gold Метадеректер (CSL-JSON)
DOI 10.26577/rcph96120266
Деректер сенімділігі 70 орташа
Бұл баға қалай есептеледі

Ол жазбаның өзінің тексерілетін белгілерінен құралады: мақаланың DOI-і бар ма, оның деректерін қанша тәуелсіз дереккөз растады, міндетті өрістер толтырылған ба және соңғы растау қаншалықты жаңа. Дереккөздер арасындағы алшақтық пен идентификатордың болмауы бағаны төмендетеді. 80-нен бастап мән жазбаның қосымша тексерусіз жарияланғанын, 60-тан 79-ға дейін — оның сенімділігі төмен күйде жарияланғанын және қолмен тексеру ұсынылатынын білдіреді. Редактор қолмен тексерген жазбаны қайта есептеу 90-нан төмен түсірмейді. Бұл — мақаланың өзіне емес, ол туралы деректерімізге берілген баға.

Аңдатпа

This paper investigates the properties and spectral characteristics of low-temperature argon plasma and argon-methane mixture plasma formed in a high-frequency dielectric barrier discharge (RF-DBD) at various powers and pressures. The experiments were conducted at an argon flow rate of 100 sccm for argon plasma and at a ratio of Ar:CH₄ = 95:5 for argon-methane plasma in the power range from 2 to 12 W and pressures of 0.5 and 1.0 Torr. It is shown that with an increase in the supplied power, the discharge area expands and the intensity of spectral lines increases, which is due to an increase in plasma density and the degree of ionisation. When the pressure increases, there is a decrease in the overall intensity of radiation due to a reduction in the free path length of electrons and an increase in collision losses. The introduction of methane leads to a decrease in the intensity of the spectral lines of molecular nitrogen and hydroxyl radicals (OH) compared to argon plasma, which indicates a redistribution of electron energy in favour of the excitation of argon atoms and active methane particles. The results obtained contribute to a deeper understanding of the physicochemical processes in Ar–CH₄ plasma and open up prospects for the application of RF-DBD discharges in plasma chemistry and materials science.